粒度分布是粉體*的一種性質(zhì)，也是決定粉體行為與屬性的重要物理性質(zhì)。因此，在處理粉體時必須進行粒度分布的分析。常用的粒度分析儀有
涂料粒度分析儀、超聲粒度分析儀、消光法光學沉積儀及X射線沉積儀等，其中涂料粒度分析儀測量方便快捷、重現(xiàn)性高，能很好的測出樣品的粒度分布曲線和集中度，越是球狀顆粒，測量的越，因而廣泛適用于材料、化工、精細陶瓷、造紙、化妝品、冶金等以顆粒物作為生產(chǎn)原料的行業(yè)。
實現(xiàn)對1um以下及寬粒徑范圍(幾十納米到幾千微米)的樣品的測量是涂料粒度分析儀的技術關鍵，概況起來，目前有以下幾種技術和光路配置被采用：
1、多透鏡技術
多透鏡系統(tǒng)曾在二十世紀八十年代前被廣泛采用，它使用傅里葉光路配置即樣品池放在聚焦透鏡的前方，配有多個不同焦距的透鏡以適應不同的粒徑范圍。優(yōu)點是設計簡單，只需要分布于幾十度范圍的焦平面檢測器，成本較低。缺點是如果樣品粒徑范圍寬的時候需要更換透鏡，不同透鏡的結(jié)果需要拼合，對一些未知粒徑的樣品用一個透鏡測量時可能會丟失信號或?qū)τ谟捎诠に囎兓瘜е碌臉悠妨阶兓荒芗皶r反映。
2、多光源技術
多光源技術也是采用傅里葉光路配置即樣品池在聚焦透鏡的前方，一般只有分布于幾十度角度范圍的檢測器，為了增大相對的檢測角度，使該檢測器能夠接收到小顆粒的衍射光信號，在相對于一光源光軸的不同角度上再配置一或第二激光器。這種技術的優(yōu)點是只需分布于幾十度角度范圍的檢測器，成本較低，測量范圍特別是上限可以比較寬。若要同時幾微米以下小顆粒的測量，需要更換短焦距的聚焦透鏡。另外，多透鏡系統(tǒng)在測量樣品時，不同的激光器是依次開啟，而在干法測量時，由于顆粒只能一次性通過樣品池，只有一個光源能被用于測量，所以一般采用多透鏡技術的干法測量的粒徑下限很難低于250納米。
希望上述內(nèi)容能夠幫助大家更好的了解本分析儀。
